v./m. (-en), (ook: ionengetterpomp), type vacuümpomp.
(e) Een ionisatiesputterpomp (afb.) bestaat in principe uit een anode met honingraatconstructie met aan weerszijden kathodeplaten van titaan. De anode heeft een spanning van ca. 3000 V ten opzichte van de kathoden. Een buiten het vacuüm aanwezige permanente magneet zorgt voor een magnetisch veld in de richting van de as van het elektrodensysteem. Er ontstaat een zelfstandige gasontlading, waarin positieve ionen worden gevormd uit de in het vacuümsysteem aanwezige gasmoleculen. Deze positieve ionen komen door de versnellende werking van het elektrisch veld met grote snelheid op de kathodeplaten en slaan daar titaan weg (sputteren). Dit titaan slaat neer op de open structuur van de anode en vormt daar een →getter, die in staat is gas uit het vacuümsysteem te binden.
Aangezien de pomp continu werkt, wordt dit gas bedekt door nieuw titaan en daardoor blijvend uit het vacuümsysteem verwijderd. De laagste druk die met dit type pomp bereikt kan worden, ligt bij 10-11 torr.
